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  • 基金委期刊Fundamental Research第二届数理科学编委会第一次会议在南京大学召开

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  • 我院彭茹雯、王牧团队成果入选“2023中国光学十大进展”

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喜报！我院洪煦昊老师仪器设备研制应用案例成功入选中国科协“2023年度优秀科研仪器案例成果” 2024-09-28 10:48
追光强国，逐梦南雍 2024-07-14 12:30
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ATLAS国际合作组高层代表团来访南京大学物理学院 2024-07-14 12:27
Measurement induced-entanglement phase transition 2024-07-14 12:15
基金委期刊Fundamental Research第二届数理科学编委会第一次会议在南京大学召开 2024-07-14 12:06
送样测试
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主要技术指标： 最大输入功率：8W 主要功能： 作为飞秒光谱研究的激发源和探测光源 服务内容： 瞬态吸收光谱测量；超快动力学过程表征；瞬态中间物种的捕捉等 用户须知： 具体请于设备管理联系人沟通。
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倒置显微镜(唐楼L115)
观察样品表面形貌
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综合物性测量系统（PPMS）(唐楼L102)
磁场范围：-9 T ~ 9 T 温度范围：2 K ~ 400 K 四线磁电阻，霍尔电阻，面内、面外旋转样品测量，热导测量
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超导量子干涉仪测量（SQUID）(科技馆618室)
磁学测量系统-MPMS(SQUID)XL-7: Quantum Design 公司的 MPMS 系列产品一直蜚声于磁学研究领域。MPMS 系统带有超导磁体和液氦温控系统，提供了高磁场温的测量环境，内置设计的射频 SQUID 用来检测磁信号，整个测量过程（包括数据的采集处理分析）高度自动化。MPMS XL 系统“应用范围、信号灵敏度、温控范围、温控精度和速度、磁场均匀度、参数测量精确和可靠性、控制自动化程度”等各个指标均较为优异。利用 MPMS XL 系列产品可以在高磁场 (高可达7 T) 温 (低可达 1.9 K) 的环境下进行精度 AC 磁化率测量、DC 磁化强度测量、以及光照条件下磁学研究，还可以进行精密电学的测量。具有高温插件，能把测量温度从400 K扩展到800K。
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电子束光刻及成像系统(物理楼123)
主要技术指标； 1. 采用肖特基热场发射电子束源，可实现高分辨电子束光刻和电子束成像功能； 2. 加速电压为20V-30kV，并在此范围内可以灵活调节，以满足多样化工作的要求； 3. 束斑尺寸小，在加速电压为20kV时，最小束斑尺寸≤ 1.6nm； 4. 束电流范围：5pA ~20nA； 5. 束流可长时间稳定，实验室温度波动± 0.5℃的情况下，束电流稳定性≤ 0.5%/ 小时； 6. 配备轴向和非轴向两个二次电子探测器，实现高分辨成像和测量功能，成像放大倍数满足20 ~ 1,000,000倍； 7. 配备激光干涉工作台，工作台运动行程为50mm x 50mm x 25mm，X/Y方向定位精度为2nm； 8. 配备系统专用图形发生器，扫描频率不低于6MHz； 9. 配备专业的电子束曝光软件包，软件兼容于Windows操作系统，可实现图形设计编辑、参数设定、系统控制、结果成像度量等功能； 10. 软件采用多用户管理，每个用户可以使用独立的文件和参数，操作方便，设计人性化； 11. 集成GDSII编辑器，可对图形进行分层设计，允许导入GDSII、DXF、ASCII、CIF等多种格式的文件； 12. 电子束扫描方式多种多样，用户可根据曝光图形任意设定。 主要功能： 本次调研的Raith品牌的PIONEER Two型专业级电子束光刻机成像系统，是一种双用途设备，除了可满足我们目前急需的微纳米结构加工的要求，实现纳米级别的加工要求外，还可以作为高分辨成像测量设备，用于器件的形貌观测和尺寸测量。PIONEER Two型电子束光刻机，采用肖特基热场发射电子枪技术，具备1.6nm以下的最小电子束束斑，可实现小于8nm超高分辨率的加工；并且设备中的激光干涉工作台，可达2nm的定位精度，实现高分辨的拼接和套刻，用于多写场大面积均匀的器件加工，以及和紫外光刻配合的混合曝光。另外，设备中配备了两个二次电子探测器，可以实现高分辨的二次电子成像，进行高精度对准、成像和尺寸测量。 服务内容： 电学器件制备 用户须知： 具体请于设备管理联系人沟通。
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